①上海微電子第一代ArF光刻機(jī)（90nm工藝）已經(jīng)通過驗證并批量生產(chǎn)，2020年搬到燕東微電子大生產(chǎn)線，目前已經(jīng)調(diào)試完畢進(jìn)入生產(chǎn)。

②上海微電子第二代ArF光刻機(jī)（65nm工藝）已經(jīng)通過驗證并批量生產(chǎn)，2022年搬到燕東微電子等大生產(chǎn)線，目前正在調(diào)試中。

③燕東生產(chǎn)線雖然已使用包括前道光刻機(jī)在內(nèi)的大量國產(chǎn)成套集成電路設(shè)備，但還是有部分設(shè)備為外購，還達(dá)不到整條生產(chǎn)線100%國產(chǎn)。（不過估計也快了）

④上海微電子第一代ArF浸潤式光刻機(jī)（55nm—28nm工藝）21年6月已經(jīng)下線（測試機(jī)），22年3月商用機(jī)下線，目前正在ICRD等產(chǎn)線驗證，本著先易后難的原則，目前在驗證試生產(chǎn)55nm制程芯片。

⑤華卓精科雙工件臺用的國產(chǎn)平面光柵位移測量系統(tǒng)搞得差不多了，一旦批產(chǎn)，可極大提高上微浸潤式光刻機(jī)的穩(wěn)定性（目前上微光刻機(jī)的雙工件臺用的是激光干涉儀，穩(wěn)定性相對較差）。

⑥國產(chǎn)ArF光刻膠驗證周期很長，南大光電有可能被新陽超過（新陽現(xiàn)有產(chǎn)能為3噸，二期規(guī)劃產(chǎn)能30噸）。

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